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石墨烯在實(shí)用化信息器件領(lǐng)域所面臨的研究難點(diǎn)

發(fā)布日期:2019-07-08  來源:  瀏覽次數(shù):16

隨著石墨烯新技術(shù)、新成果的不斷涌現(xiàn),石墨烯研究有了巨大發(fā)展,但是仍然存在一些挑戰(zhàn)性難題。基于高質(zhì)量大面積石墨烯的實(shí)用化信息器件方面仍然存在諸多問題。石墨烯具有獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì),具備優(yōu)良的力學(xué)、熱學(xué)、光學(xué)和電學(xué)特性。這樣的“黑金”材料應(yīng)用在信息器件與電路領(lǐng)域是前景廣闊的。

微晶

信息科學(xué)作為目前發(fā)展較為活躍的研究陣地之一,若將石墨烯材料運(yùn)用其中,會(huì)發(fā)生怎樣的改變?自2014年起,有專門的研究團(tuán)隊(duì)針對(duì)石墨烯信息器件的一些關(guān)鍵基礎(chǔ)問題、開展新概念、新方法和新技術(shù)的研究,并在重大科學(xué)問題上取得一系列進(jìn)展。

微晶

CVD法制備石墨烯,經(jīng)過工藝優(yōu)化,可實(shí)現(xiàn)大面積石墨烯單晶生長。在實(shí)際應(yīng)用過程中,金屬表面形成的石墨烯一般需要轉(zhuǎn)移至介電層上,才可進(jìn)行下一步的器件加工。復(fù)雜的轉(zhuǎn)移過程不可避免會(huì)對(duì)石墨烯造成破損、褶皺等問題。為了解決這一難題,研究者進(jìn)行在介電襯底表面直接生長石墨烯的實(shí)驗(yàn)。若這項(xiàng)實(shí)驗(yàn)成功,將會(huì)極大促進(jìn)石墨烯的廣泛應(yīng)用。事實(shí)上,由于介電層表面能量較低、對(duì)碳源小分子的裂解以及石墨烯形成所產(chǎn)生的催化作用十分微弱,因此在介電襯底上直接生長石墨烯是一個(gè)研究難點(diǎn)。

為了在介電襯底生長高質(zhì)量石墨烯并應(yīng)用在信息器件上,研究人員發(fā)明了一種雙層掩模工藝,解決了絕緣的介電襯底上利用電子束曝光制備石墨烯納米結(jié)構(gòu)的難題。石墨烯實(shí)現(xiàn)在實(shí)用化信息器件領(lǐng)域的應(yīng)用,對(duì)于人類是一件非常有意義的事情。隨著石墨烯新技術(shù)的不斷涌現(xiàn),在各領(lǐng)域會(huì)有長足發(fā)展。

隨著石墨烯新技術(shù)、新成果的不斷涌現(xiàn),石墨烯研究有了巨大發(fā)展,但是仍然存在一些挑戰(zhàn)性難題。基于高質(zhì)量大面積石墨烯的實(shí)用化信息器件方面仍然存在諸多問題。石墨烯具有獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì),具備優(yōu)良的力學(xué)、熱學(xué)、光學(xué)和電學(xué)特性。這樣的“黑金”材料應(yīng)用在信息器件與電路領(lǐng)域是前景廣闊的。

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微晶

CVD法制備石墨烯,經(jīng)過工藝優(yōu)化,可實(shí)現(xiàn)大面積石墨烯單晶生長。在實(shí)際應(yīng)用過程中,金屬表面形成的石墨烯一般需要轉(zhuǎn)移至介電層上,才可進(jìn)行下一步的器件加工。復(fù)雜的轉(zhuǎn)移過程不可避免會(huì)對(duì)石墨烯造成破損、褶皺等問題。為了解決這一難題,研究者進(jìn)行在介電襯底表面直接生長石墨烯的實(shí)驗(yàn)。若這項(xiàng)實(shí)驗(yàn)成功,將會(huì)極大促進(jìn)石墨烯的廣泛應(yīng)用。事實(shí)上,由于介電層表面能量較低、對(duì)碳源小分子的裂解以及石墨烯形成所產(chǎn)生的催化作用十分微弱,因此在介電襯底上直接生長石墨烯是一個(gè)研究難點(diǎn)。

為了在介電襯底生長高質(zhì)量石墨烯并應(yīng)用在信息器件上,研究人員發(fā)明了一種雙層掩模工藝,解決了絕緣的介電襯底上利用電子束曝光制備石墨烯納米結(jié)構(gòu)的難題。石墨烯實(shí)現(xiàn)在實(shí)用化信息器件領(lǐng)域的應(yīng)用,對(duì)于人類是一件非常有意義的事情。隨著石墨烯新技術(shù)的不斷涌現(xiàn),在各領(lǐng)域會(huì)有長足發(fā)展。